手动无接触硅片测试仪(HS-NCS-300型)可以测量硅片厚度、总厚度变化 TTV 、弯曲度，该仪器适用于 Si ， GaAs ， InP ， Ge 等几乎所有的材料，所有的设计都符合 ASTM( 美国材料实验协会 ) 和 Semi 标准，确保与其他工艺仪器的兼容与统一。
产品特点：■ 无接触测量■ 适用的晶圆材料包括Si，GaAs，InP，Ge等几乎所有的材料■ 厚度和 TTV 测量采用无接触电容法探头■ 高分辨率液晶屏显示厚度和 TTV 值■ 性价比高■ 菜单式快速方便设置■ 高分辨率液晶 LCD 显示■ 提供和计算机连接的输出端口■ 提供打印机端口■ 便携且易于安装■ 为晶圆硅片关键生产工艺提供精确的无接触测量■ 高质量微处理器为精确和重复精度高的测量提供强力保障■ 高质量 聚四氟乙烯晶圆测试架，为晶圆硅片精确定位提供保障技术指标：■ 晶圆硅片测试尺寸： 50 mm - 300mm.■ 厚度测试范围： 1000 u m ， 可扩展到 1700 um.■ 厚度测试精度： +/-0.25um■ 厚度重复性精度： 0.050um
■ TTV 测试精度 : +/-0.05um■ TTV 重复性精度 : 0.050um■ 弯曲度测试范围： +/-500um [+/-850um]■ 弯曲度测试精度： +/-2.0um■ 弯曲度重复性精度： 0.750um■ 晶圆硅片导电型号： P 或 N 型■ 材料： Si ， GaAs ， InP ， Ge 等几乎 所有半导体材料■ 可用在： 切片后、磨片前、后， 蚀刻，抛光 以及出厂、入厂质量检测等■ 平面 / 缺口：所有的半导体标准平面或缺口■ 硅片安装：裸片，蓝宝石 / 石英基底， 黏胶带■ 连续 5 点测量应用范围：> 切片 >>线锯设置 >>>厚度 >>>总厚度变化TTV >>监测 >>>导线槽 >>>刀片更换> 磨片/刻蚀和抛光 >> 过程监控 >> 厚度 >> 总厚度变化TTV >> 材料去除率 >> 弯曲度 >> 翘曲度 >> 平整度> 研磨 >> 材料去除率> ***终检测 >> 抽检或全检 >> 终检厚度典型客户：美国，欧洲，亚洲及国内太阳能及半导体客户。
