设备概况:
电极9对/18对硅棒还原炉可生长晶体直径150毫米高纯度多晶硅,炉室直径1200毫米和1700毫米,高度2500毫米,炉内工作压力小于0.1MPa,采用导热油冷却在炉室内,各对电极间架起硅芯桥,采用单片机高压触发器控制SCR移相、八级调压;采用西门子PLC控制逻辑电路。采用西门子还原法在炉室内注入三氯氢硅,通过气相沉积产生高纯度多晶硅。
多晶硅还原炉
详细信息 设备概况: 电极9对/18对硅棒还原炉可生长晶体直径150毫米高纯度多晶硅,炉室直径1200毫米和1700毫米,高度2500毫米,炉内工作压力小于0.1MPa,采用导热油冷却在炉室内,各对电极间架起硅芯桥,采用单片机高压触发器控制SCR移相、八级调压;采用西门子PLC控制逻辑电路。采用西门子还原法在炉室内注入三氯氢硅,通过气相沉积产生高纯度多晶硅。 |
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