低压化学气相沉积设备

　　凭借来自世界各地技术专家的努力，理想能源在短短一年的时 间内就研发出在玻璃基板上沉积透明导电氧化物膜(Transparent Conductive Oxide, TCO)的低压化学气相沉积设备（LPCVD）。该设备已有八台用在硅基薄膜太阳电池生产线 上沉积电池的前后导电层。实际的生产数据表明：该设备开机率达90%以上，产品良率达 98%。该设备代表了此类技术的世界先进水平，在2011年获上海浦东科技进步奖，2012年 获上海科学技术奖。