该设备主要通过磁控溅射的方式实现ITO薄膜的溅射，子创公司在该设备的设计中充分考虑到触摸屏用ITO导电膜对本底真空、清洁度、电导率、膜层均匀性等关键指标的要求，运用了多项拥有自主知识产权的关键技术，核心部件采用国际知名品牌，提高设备的综合性能和性价比。
特点：
1.真空室体材料采用 SUS304 ，内壁进行抛光处理，外壁抛光后喷珠。
2.独立门阀—插板阀隔开，隔离性好，工艺稳定。
3.磁导向传动，稳定性好。
4.变频调速电机驱动，精确控制传动速度。
5.PLC总线控制，人机界面友好，操作极为简便
技术参数：
本底真空：6.0E-6mbar
平均生产周期：根据产品确定
基片架尺寸：根据要求定做
膜层均匀性：±3%
