应用领域
非晶硅膜系太阳能电池的透明导电膜（SnO2、AZO、ITO）非晶硅膜（a-Si、μc-Si）、背电极膜（ZnO、AL）等的激光刻膜（刻线、切割）其它薄膜电池的膜层刻膜（金属钼Mo薄膜、金属镍Ni 薄膜、碲化CdTe薄膜）
产品特点
高速气浮工作台：膜面朝上运行；自动识别跟踪定位
直线电机驱动；自动湿度补偿；半导休端面泵浦光纤耦合激光器
四光路同步输出；自动进出料自动上下料；静态显示（动态观察）
技术指标
型号规格 | GSF-P1 | GSF-P2 | GSF-P3 |
激光波长 | 1064nm | 532nm | 532nm |
有效加工幅画 | 1.1×1.4m (635×1245mm) | ||
***大运行速度 | 2000mm/s | ||
平均刻膜速度 | 800-1500mm/s | ||
重复定位精度 | ± 10μm | ||
运动直线度 | ± 10μm/1000mm | ||
***小刻膜线宽 | 30-60μm | ||
三线外沿总宽度 | 300-400μm | ||
