硅片显影台

硅片显影台
  用于晶片的显影工艺，
  控制模式:  手动控制模式   自动控制模式，
  清洗能力：2-4英寸晶片。

  需甲方提供花篮。

  设备形式: 室内放置型。

  洁净度：千级洁净室 。

  工艺说明:手动方式实现放片（工件），取片(工件)，槽体间传送片。

  工艺参数（温度，时间，DI水清洗流量，时间）手动设定。

  设备台面布局按用户要求配制。