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PECVD设备图1

PECVD设备

2022-12-05 11:5411190询价
价格:电议

设备主要特点

◆用工业微机对工艺时间,温度,气体流量,阀门动作,反应室压力实现全自动控制.
◆采用进口压力控制系统,闭环系统,稳定性高.
◆采用进口耐腐蚀不锈钢管件,阀门,确保气路气密性.
◆具有完善的报警功能及安全互锁装置.
◆具有超高温报警及欠温报警,MFC报警,反应室压力报警,RF报警,高压空气压力报警,N2压力报警.水流报警等。 类型◆工艺过程完全不受外界环境干扰,工艺质量完全控;有毒害尾气定向收集、集中处理排放;更加安全、环保。
◆装片数量: 250片/每炉管
◆净化台洁净度:100级(10000级厂房)
◆自动化程度:自动控制温度及工艺过程。主控温控模块采用日本导电或同类品牌,可在达到±0.5℃的控制精度。
◆送取片方式:悬臂式推拉舟。我公司推拉系统采用光杠传动系统,本系统比丝杠传动系统运行更平稳,避免了推拉舟长时间运行后由于丝杠变形引起的推拉舟的震动;防止突然断电时,丝杠抱死,拖不出炉膛。 设备主要技术指标◆     温度使用范围:150~600℃◆     极限真空度: 优于1Pa◆     压力调节范围:13~300Pa 连续可调,闭环控制◆     射频电源:    400KHz连续可调◆     温区长度(150~400℃):1000mm◆     温区稳定性(400℃):   ±2℃◆     温区稳定性(<400℃): ±3℃◆     温度梯度:    0~30℃/1000mm可调◆     淀积速率:    30nm/min◆     深层折射率: 1.9~2.2◆     ***大可控升温速度:15℃/min

◆     ***大降温速度:5℃/min

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